勻膠機：顧名思義,是把膠均勻地涂在基片上的一種機器。方法很多，有滾涂，浸涂，噴涂，旋涂等，各有優(yōu)缺點。不同的應用采取不同的涂膠方法。其中旋涂用得蕞多，那是因為它能取得蕞高的均勻性，是半導體微電子里光刻工藝的通用的方法。

作原理是高速旋轉基片，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上，勻膠機常用于各種溶膠凝膠（Sol-Gel）實驗中的薄膜制作，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉速度及時間有關。可以設定多達20個程序段來存儲不同材料的制備過程，每個程序段都能設定51步速度改變，當前參數(shù)具斷電保護功能。